氟化钬(III)

中文名称：氟化钬(III)

英文名称： holmium fluoride

CAS： 13760-78-6

分子式： F₃Ho

分子量： 222

EINECS号： 237-352-1

中文同义词氟化钬(III) 英文同义词

holmium fluoride

基本性质

折射率	1.53
溶解度	soluble in H2O
形态	powder
颜色	pink-yellow orthorhombic crystals, crystalline; hygroscopic
水溶解性	Insoluble in water.
暴露限值	ACGIH: TWA 2.5 mg/m3 NIOSH: IDLH 250 mg/m3
EPA化学物质信息	Holmium fluoride (HoF3) (13760-78-6)

安全信息

危险品标志	T
安全说明	26-36/37/39-45
危险品运输编号	UN 3288 6.1/PG 3
Hazard Note	Hygroscopic
TSCA	Yes
海关编码	2826199090

CHS信息

生产方法及用途

生产方法	氢氟酸沉淀真空脱水法。将氢氟酸加到硫酸钬的水溶液中，将其水溶液蒸发、浓缩、冷却、结晶，即可制得三氟化钬的水合物。或由Ho(OH)3与氢氟酸反应制得水合氟化钬，然后在真空中加热脱去结晶水。氢氟酸浓度一般为40%～48%，它的消耗量是理论量的110%～120%。从水溶液中析出的氟化钬沉淀，必须用水充分洗涤，水洗采用倾泻法。过滤后的沉淀物在100～150℃下干燥，以脱去吸附水。得到只含结晶水的氟化物。为避免脱水中发生高温水解，生成氟氧化物HoOF,脱水过程需在真空中加热进行。真空度要高于0133Pa，脱水温度不低于300℃。另一种脱水方法就是将水合氟化钬放在干燥氟化氢气流中脱水，最终脱水温度为600～650℃。这种在氟化氢气氛保护下的脱水方式可以使水合氟化钬在脱水过程中进一步氟化，可确保产品的质量。由于氢氟酸沉淀是在水溶液中进行的，一般使用塑料容器，且脱水设备的材料须耐高温腐蚀，一般采用镍基合金或用纯镍做内衬材料。
用途	氟化钬用途：光学镀膜、光纤掺杂、激光晶体、单晶原料、激光放大器、催化助剂等。

生产方法

氢氟酸沉淀真空脱水法。将氢氟酸加到硫酸钬的水溶液中，将其水溶液蒸发、浓缩、冷却、结晶，即可制得三氟化钬的水合物。或由Ho(OH)3与氢氟酸反应制得水合氟化钬，然后在真空中加热脱去结晶水。

氢氟酸浓度一般为40%～48%，它的消耗量是理论量的110%～120%。从水溶液中析出的氟化钬沉淀，必须用水充分洗涤，水洗采用倾泻法。过滤后的沉淀物在100～150℃下干燥，以脱去吸附水。得到只含结晶水的氟化物。为避免脱水中发生高温水解，生成氟氧化物HoOF,脱水过程需在真空中加热进行。真空度要高于0133Pa，脱水温度不低于300℃。

另一种脱水方法就是将水合氟化钬放在干燥氟化氢气流中脱水，最终脱水温度为600～650℃。这种在氟化氢气氛保护下的脱水方式可以使水合氟化钬在脱水过程中进一步氟化，可确保产品的质量。由于氢氟酸沉淀是在水溶液中进行的，一般使用塑料容器，且脱水设备的材料须耐高温腐蚀，一般采用镍基合金或用纯镍做内衬材料。

用途

氟化钬用途：光学镀膜、光纤掺杂、激光晶体、单晶原料、激光放大器、催化助剂等。